稀材事業
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光電材料事業部
- 分類:稀材事業部
- 作者:
- 來源:
- 發布時間:2020-12-14 09:59
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【概要描述】近年來,隨著信息技術的飛速發展,對半導體材料的要求越來越高,需求量也越來越多,歐泰依托在難熔及稀貴金屬領域的豐富經驗,成立了光電材料事業部,主要針對光電行業提供真空鍍膜耗材解決方案與半導體設備MOCVD熱場解決方案。
真空鍍膜有三種形式:蒸發鍍膜、濺射鍍膜、離子鍍,是目前以物理氣相沉積法(PVD)方式實現膜生長的主流技術。歐泰稀材生產供應各類形態的優質高純金屬蒸發料、濺射靶材,確保用戶得到最佳鍍膜品質。
金屬有機物化學氣相沉積(Metal Organic Chemical Vapor Deposition,簡稱 MOCVD)是制備混合半導體器件、金屬及金屬氧化物、金屬氮化物薄膜材料的一種芯片外延技術。加熱系統是 MOCVD 設備的重要組成部分,它能否快速、均勻的加熱襯底,直接影響著薄膜沉積的質量、厚度一致性,以及芯片的性能。歐泰稀材旗下的錸因合金擁有10年MOCVD用錸加熱器專業制作技術經驗及完善的品控管理體系,是替代MOCVD用錸加熱器進口大牌或原廠配件,能夠進行OEM全工序代工代制,最具技術開發實力和品質保障能力的國內頭號廠家。
光電材料事業部
【概要描述】近年來,隨著信息技術的飛速發展,對半導體材料的要求越來越高,需求量也越來越多,歐泰依托在難熔及稀貴金屬領域的豐富經驗,成立了光電材料事業部,主要針對光電行業提供真空鍍膜耗材解決方案與半導體設備MOCVD熱場解決方案。
真空鍍膜有三種形式:蒸發鍍膜、濺射鍍膜、離子鍍,是目前以物理氣相沉積法(PVD)方式實現膜生長的主流技術。歐泰稀材生產供應各類形態的優質高純金屬蒸發料、濺射靶材,確保用戶得到最佳鍍膜品質。
金屬有機物化學氣相沉積(Metal Organic Chemical Vapor Deposition,簡稱 MOCVD)是制備混合半導體器件、金屬及金屬氧化物、金屬氮化物薄膜材料的一種芯片外延技術。加熱系統是 MOCVD 設備的重要組成部分,它能否快速、均勻的加熱襯底,直接影響著薄膜沉積的質量、厚度一致性,以及芯片的性能。歐泰稀材旗下的錸因合金擁有10年MOCVD用錸加熱器專業制作技術經驗及完善的品控管理體系,是替代MOCVD用錸加熱器進口大牌或原廠配件,能夠進行OEM全工序代工代制,最具技術開發實力和品質保障能力的國內頭號廠家。
- 分類:稀材事業部
- 作者:
- 來源:
- 發布時間:2020-12-14 09:59
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光電材料事業部簡介
近年來,隨著信息技術的飛速發展,對半導體材料的要求越來越高,需求量也越來越多,歐泰依托在難熔及稀貴金屬領域的豐富經驗,成立了光電材料事業部,主要針對光電行業提供真空鍍膜耗材解決方案與半導體設備MOCVD熱場解決方案。
真空鍍膜有三種形式:蒸發鍍膜、濺射鍍膜、離子鍍,是目前以物理氣相沉積法(PVD)方式實現膜生長的主流技術。歐泰稀材生產供應各類形態的優質高純金屬蒸發料、濺射靶材,確保用戶得到最佳鍍膜品質。
金屬有機物化學氣相沉積(Metal Organic Chemical Vapor Deposition,簡稱 MOCVD)是制備混合半導體器件、金屬及金屬氧化物、金屬氮化物薄膜材料的一種芯片外延技術。加熱系統是 MOCVD 設備的重要組成部分,它能否快速、均勻的加熱襯底,直接影響著薄膜沉積的質量、厚度一致性,以及芯片的性能。歐泰稀材旗下的錸因合金擁有10年MOCVD用錸加熱器專業制作技術經驗及完善的品控管理體系,是替代MOCVD用錸加熱器進口大牌或原廠配件,能夠進行OEM全工序代工代制,最具技術開發實力和品質保障能力的國內頭號廠家。
聯系方式
負責人:張經理
電話:18608419172
郵箱:ultra@ultramet.com.cn
光電事業部提供哪些服務?
真空鍍膜有三種形式:蒸發鍍膜、濺射鍍膜、離子鍍,是目前以物理氣相沉積法(PVD)方式實現膜生長的主流技術。歐泰稀材生產供應各類形態的高純金屬蒸發料、濺射靶材,確保用戶得到好的鍍膜品質。
半導體、微電子行業芯片散熱(熱管理)材料,其它大功率集成電路,微波射頻,高壓電,核能,醫療設備等眾多應用場合電熱傳導解決方案。當下以及未來,電子元器件的微型化及多功能化對器件的散熱性提出了更高要求。歐泰稀材面向用戶定制一系列牌號的優質鎢銅、鉬銅產品
光電事業部提供哪些產品?
經過多年的沉淀,歐泰已形成了以稀貴金屬為主的靶材及蒸鍍材料產品系列,主要包含釕、錸、鋨、銥等貴金屬材料,鎢鉬鉭鈮等難熔金屬材料。
在LED芯片外延領域,歐泰稀材旗下的錸因合金與MOCVD廠家聯合研發了能替代進口的錸加熱部件,產品已在行業內占據較大的市場份額。
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